提示詞描述

本研究利用金屬光柵結構（基底為矽，其上為正弦光阻光柵，接著是與正弦光阻光柵緊密對準的金屬銀光柵，最後是Rh800染料分子）來實現共振調製，並透過控制其表面電漿共振模式與激發波長之間的匹配關係，在不同入射角下顯著增強Rh800染料分子的光致發光（PL）。實驗結果表明，當電漿共振模式與激發波長精確匹配時，光致發光強度可提高至22倍；即使共振位置存在一定程度的失配，PL增強因子仍可達到14倍。作為對照，當使用未圖案化的金屬薄膜結構時，也能實現5倍的光致發光增強。結合數值模擬，系統地分析了不同光柵結構中的共振模式特性、電磁場分佈和局部場增強效應，並與實驗結果進行比較。所設計的光柵結構在廣泛的光譜範圍內表現出優異的光學響應控制能力，為有效增強光致發光提供了更大的靈活性。這種策略在光學感測、生物成像、光電元件、能量轉換和催化反應中具有重要的應用潛力。建議提供圖形摘要。