
Легирование алюминием вызывает искажение кристаллической решетки и перераспределение электронной плотности, стабилизируя марганец в высоких степенях окисления (ВСОМ) и создавая кислую микросреду на поверхности, что обеспечивает начальную термодинамическую движущую силу. В кислых условиях ВСОМ очищают органический слой на поверхности посредством жертвенного окисления и восстанавливаются до марганца в низких степенях окисления (НСОМ). Впоследствии НСОМ активируют озон (O3) и регенерируют оксо-формы ВСОМ со сниженным энергетическим барьером. Каждый процесс HCO увеличивает степень окисления Mn, делая систему MnAl-LDO/O3 эффективным и самоподдерживающимся каталитическим циклом.
ОДОБРЕНО Классификация: химия Обложка для журнала JACS проф...